mr-NIL210 有機可光固化的NIL抗蝕劑，具有出色的干法刻蝕特性。它具有出色的固化和納米壓印性能，特別適用于使用軟印模材料（例如PDMS）的軟NIL。
特征：
1）在空氣中（存在氧氣）也具有出色的固化性能
2）對各種基材（如硅，石英或鋁）具有出色的干法刻蝕穩定性
3）純有機抗蝕劑，固化后可通過氧等離子體去除殘留物
應用領域
1）蝕刻掩模，用于圖案轉印工藝（干法和濕法蝕刻）
2）納米結構的制造
3）LED，光子晶體
4）圖案藍寶石襯底（PSS）
5）微電子學
6）有機電子產品（OLED，OPV，OTFT）
處理步驟
旋涂 3000 rpm 持續30 s
預烤 60°C持續180 s
烙印溫度 室內溫度
壓印壓力 > 100毫巴
輻射強度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2
mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2
mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2
可根據要求提供定制的膜厚，2 µm
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