德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
MR-I T85系列
熱塑性NIL抵抗劑 基于非極性環烯烴共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蝕劑（Tg = 85°C）
特征：
1）用于制造微流體或芯片實驗室設備的薄膜厚度可能高達5 µm
2）100％有機熱塑性塑料→可以使用純氧等離子體進行干法蝕刻和剝離
3）在紫外線/可見光范圍內具有的光學透明度，并具有針對不同溶劑，酸和堿的化學穩定性
應用領域
芯片實驗室系統
1）生物應用 4）波導
2）微流控 5）單層和多層系統
3）微光學元件 6）用于圖案轉印過程的掩模
處理步驟
玻璃化溫度 85°攝氏度
烙印溫度 130 – 150°C
壓印壓力 5 – 20巴
適用于各種膜厚（3000 rpm）*
mr-I T85-0.3 300 nm
mr-I T85-1.0 1.0 µm
mr-I T85-5.0 5.0 µm
*可根據要求提供定制的膜厚
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