等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。PDC系列等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。Harrick等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。這款等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被等離子體表面處理儀的真空泵抽走，HPC等離子體表面處理儀的清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
Harrick等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能：等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。HPC小型等離子體表面處理儀對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子體表面處理儀的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。我們的等離子體表面處理儀廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
應(yīng)用范圍：
* 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
* 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
* 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
* 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉積凝膠的基片。
* 高分子材料表面修飾。
* 牙科材料、人造移植物、科研的消毒和殺菌。
* 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
我們的擴(kuò)展型PDC-002等離子清潔機(jī)是一種更大的臺(tái)式等離子儀器，廣泛用于納米級(jí)表面清潔和表面活化。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 可調(diào)的RF功率設(shè)置（低，中，高三種檔位）；
? RF功率為18W；
? 配有3“直徑x 6.5"長(zhǎng)的Pyrex派瑞克斯玻璃腔體；
? 腔室?guī)в杏^察窗的鉸鏈門(mén)；
? 主動(dòng)風(fēng)扇冷卻；
? 真空泵的集成開(kāi)關(guān)；
? 1/8“ NPT計(jì)量閥，以定性控制氣體流量和腔室壓力；
? 1/8“ NPT三通閥，可快速?gòu)囊霘怏w，排氣和隔離腔室中切換出來(lái)；
? 重量：13磅；
? 尺寸：8.5"H x 10“ W x 8"D；
可選配項(xiàng)：
? 可選PlasmaFlo氣體流量混合儀，可定量控制；
? 多達(dá)兩種工藝氣體并監(jiān)控真空壓力（真空計(jì)）；
? 可選石英腔體和樣品盤(pán)；
? 兼容真空泵；
技術(shù)參數(shù)：
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