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金屬材料研究。

奈米薄膜。

太陽能電池。

客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

和其應(yīng)用。

寬大的前開式門，並有兩個(gè)視窗和

視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

腔體的極限真空度約為10^-8 Torr。

客製化的基板尺寸，直徑為12寸

晶圓或470 x 370 mm²(玻璃)。

寬大的前開式門，並有兩個(gè)視窗和

視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。

具有順序操作或共沉積的多個(gè)蒸發(fā)源。

基板可加熱到800°C。

利用載臺(tái)旋轉(zhuǎn)來改善薄膜沉積之品質(zhì)。

基板至蒸發(fā)源之間距為可調(diào)式的。

每個(gè)蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。

可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套

箱整合在一起。

結(jié)合離子源、濺鍍槍、電子束、

等離子清潔...。

基板冷卻。

殘留氣體分析儀。