概括：
濺射鍍膜機和SEM / TEM碳鍍膜機Q-Plus系列是Quorum國際的市場的濺射和碳涂層機系列的版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡，其中包括超細涂層。濺射鍍膜是在掃描電子顯微鏡（SEM）上進行觀察之前制備不導電或導電不良的標本的標準方法。Quorum提供低成本，旋轉泵浦濺射鍍膜機，用于沉積非氧化金屬（例如金（Au）和鉑（Pt））以及渦輪分子泵鍍膜機，適用于氧化和非氧化金屬（例如鉻（鉻）。為了提供改進的超細涂層，Quorum推出了NEW Q150V Plus，該產品可提供1x10 -6 mbar 的極限真空度，以提供出色的效果。
大腔室濺射鍍膜機可用于直徑為200 mm的樣品。大多數Quorum涂層機也可以配置為使用易更換的碳棒和碳纖維插件進行碳蒸發。
選購說明：
Q150V是適合于高真空應用。這款新產品使用戶能夠生產出更細的晶粒尺寸和更薄的涂層，以用于超高分辨率應用（放大倍數達20萬倍）。Q150T Plus涂布機適用于SEM，TEM和許多薄膜應用。它有三種形式：作為濺射鍍膜機，碳鍍膜機，或在單個緊湊系統中同時進行濺射和碳蒸發。
Q150R Plus涂布機適用于使用非氧化性金屬的W-SEM濺射應用，以及適用于EDS和WDS的碳涂層SEM標本。
對于較大的樣品，Q300T T Plus（渦輪分子泵）型號允許涂覆單個直徑為8“ / 200 mm的大直徑樣品（例如晶片），或多個直徑相似的較小樣品。兩個都具有三個濺射頭確保涂層均勻沉積。
對于薄膜應用，Q300T D Plus雙靶順序濺射鍍膜機可連續濺射金屬層，而無需破壞真空。該Q150 GB是Q150T的模塊化版本ES涂布機設計集成到一個手套箱。范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機，可提供可選的碳纖維蒸發附件
主要特征
· 操作簡單· 設計緊湊，占地面積小
· 輝光放電能力
· 碳纖維蒸發選項
· 可調高度的樣品臺
· 易于更換的濺射靶-金/鈀（Au / Pd）標準
SC7620主要設計用于在鎢絲SEM中檢查樣品之前進行涂層。對于大多數FE-SEM應用所需的額外細晶粒涂層，需要高真空涂層-請參見Q150T或Q300TT。有關用于W-SEM應用的全自動涂布機，請參見Q150R。這些產品僅供研究使用。
操作簡便
為防止意外損壞，高壓導線被屏蔽。等離子電流可通過使用氬氣泄漏閥調節真空度并預先設置等離子電壓來改變。為了獲得的濺射鍍膜效率，氣體噴射器系統可確保氬氣進入腔室的位置接近等離子體放電。排氣是氬氣。SC7620是一款緊湊型入門級SEM濺射鍍膜機。當與可選的SC7620-CF碳纖維蒸發附件結合使用時，它是理想的低成本SEM濺射和碳涂層系統封裝。此外，SC7620標配帶輝光放電功能，使其非常適合碳涂層TEM網格的親水化或“潤濕"以及其他表面改性。SC7620是理想的易于使用的儀器，是一款性價比高的設備。專為常規應用而設計，SC7620使用基本的磁控濺射頭和易于更換的圓盤靶（金/鈀為標準）。濺射頭采用鉸鏈連接，易于操作，并配有電氣安全聯鎖裝置。面板安裝開關可在濺射鍍膜和輝光放電模式之間切換系統。真空要求
需要合適的旋轉真空泵。為此，Pfeiffer DUO 6 5 m 3 / hr兩級旋轉真空泵是理想的選擇。請參閱：訂購信息以獲取更多詳細信息。
快速的循環時間，高度可調的樣品臺
直徑100毫米/ 4英寸的耐熱玻璃圓柱體安裝在鋁制軸環上，并用O型圈密封。較小的真空室尺寸意味著抽氣時間和循環時間都很快，并且還允許使用小型經濟型旋轉泵。樣品臺是可調節高度的，可以很容易地卸下以容納更高的樣品。沉積速率由分辨率為15秒的180秒計時器手動控制。壓力和等離子電流由模擬儀表監控。
濺射和SEM碳涂層（可選）
SC7620將沉積適用于鎢絲SEM的涂料，并且具有操作簡單，確保可靠性和適用于一般用途的優點。可以通過添加可選的碳蒸發附件將其快速轉換為沉積碳，該附件包括可切換的電壓電源和碳纖維頭。
輝光放電（親水化）
前面板上的三向開關可將SC7620切換到輝光放電模式。
新鮮制得的透射電子顯微鏡（TEM）碳支撐膜傾向于具有疏水性表面，該疏水性表面阻礙了TEM切片從水浴表面收集，并阻止了顆粒懸浮液在負污染溶液中的擴散。因此，在用空氣進行輝光放電處理之后，可以使碳膜親水并帶負電荷，從而可以收集TEM截面并易于分散水懸浮液。
Q150V Plus適用于高真空應用中的超細涂層
Q150V Plus針對高真空應用進行了優化，極限真空度為1x10 -6 mbar。結合使用寬范圍的Penning / Pirani量規，可以濺射具有超細晶粒尺寸的氧化金屬，適用于高分辨率成像。較低的壓力從腔室中除去了氧氣和水蒸氣，避免了濺射過程中的化學反應，否則可能導致涂層中的雜質或缺陷。類似地，較低的散射允許高密度的高純度無定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有優點，但具有更細的晶粒尺寸和更薄的涂層，適用于超高分辨率應用（放大倍數200,000）。
Q150V Plus針對高真空應用進行了優化，極限真空度為1x10 -6 mbar。結合使用寬范圍的Penning / Pirani量規，可以濺射具有超細晶粒尺寸的氧化金屬，適用于高分辨率成像。較低的壓力從腔室中除去了氧氣和水蒸氣，避免了濺射過程中的化學反應，否則可能導致涂層中的雜質或缺陷。類似地，較低的散射允許高密度的高純度無定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有優點，但具有更細的晶粒尺寸和更薄的涂層，適用于超高分辨率應用（放大倍數200,000）。
Q150R Plus-旋轉泵式涂布機
Q150R Plus適用于Tungsten / LaB6 SEM和臺式SEM。
Q150R Plus提供三種格式：
濺射 （Q150R Plus S）
碳纖維蒸發（Q150R Plus E）
濺射和碳線蒸發（Q150R Plus ES）
Q150T Plus-渦輪分子泵鍍膜機
Q150T Plus經過優化，可與渦輪分子泵配合使用，從而將真空度降低至5 x 10-5 mbar。
Q150T Plus提供三種格式：
用于非氧化性金屬的自動濺射鍍膜機（Q150T S Plus）
用于SEM應用（Q150T E Plus）的自動碳涂層機（棒/繩）
能夠同時進行濺射和碳涂層的組合系統（Q150T ES Plus）
Q150 GB渦輪泵濺射鍍膜機/手套箱用碳鍍膜機
Q150GB是市場的Q150T ES臺式渦輪分子泵涂層系統的模塊化手套箱版本， 適用于SEM，TEM和許多薄膜應用。Q150 GB標配濺射和碳棒蒸發插件以及旋轉樣品臺。選件包括金屬蒸發，輝光放電，膜厚測量和特殊的載物臺，以適應各種樣品類型
Q300T D Plus-雙靶連續濺射，適用于直徑為150 mm的樣品
Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射，具有兩個獨立的濺射頭，可以連續濺射兩種金屬而無需破壞真空。該系統是*自動化的，具有用戶定義的配方，可控制泵送順序，時間，濺射周期數以及過程中使用的電流。通過在兩個靶材之間循環，可以依次濺射兩種靶材厚度不限的無限層。不使用時，將目標物關閉以防污染。
Q150GB是市場的Q150T ES臺式渦輪分子泵涂層系統的模塊化手套箱版本， 適用于SEM，TEM和許多薄膜應用。Q150 GB標配濺射和碳棒蒸發插件以及旋轉樣品臺。選件包括金屬蒸發，輝光放電，膜厚測量和特殊的載物臺，以適應各種樣品類型
Q300T D Plus-雙靶連續濺射，適用于直徑為150 mm的樣品
Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射，具有兩個獨立的濺射頭，可以連續濺射兩種金屬而無需破壞真空。該系統是*自動化的，具有用戶定義的配方，可控制泵送順序，時間，濺射周期數以及過程中使用的電流。通過在兩個靶材之間循環，可以依次濺射兩種靶材厚度不限的無限層。不使用時，將目標物關閉以防污染。
Q300T T Plus-三靶濺射鍍膜機，用于直徑200mm的樣品
Q300T T Plus是一個大室，渦輪泵送涂層系統，非常適合濺射8“ / 200mm的單個大直徑樣品或類似直徑的多個較小的樣品。非常適合薄膜應用和SEM / FE- SEM。它配有三個濺射頭，以確保單個大樣品或多個樣品的均勻沉積
Q300T T Plus是一個大室，渦輪泵送涂層系統，非常適合濺射8“ / 200mm的單個大直徑樣品或類似直徑的多個較小的樣品。非常適合薄膜應用和SEM / FE- SEM。它配有三個濺射頭，以確保單個大樣品或多個樣品的均勻沉積
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