KRTS MX50M金相顯微鏡應用于工業檢測及金相分析領域，各操作機構根據人機工程學設計，大限度減輕使用疲勞。模塊化的部件設計，可對系統功能進行自由組合。大行程移動工作平臺，長工作距半復消色差物鏡，圖像銳利清晰，集成了明場、斜照明、偏光、DIC微分干涉等多種觀察功能，可根據實際應用，進行功能選擇。
無限遠鉸鏈三通觀察頭
正像鉸鏈三目觀察頭，所成像的方位與物體實際方位一致，物體移動的方向跟像面移動的方向相同，便于使用者觀察與操作。
光學系統
同步設計了全套明暗場兩用物鏡，暗場照明亮度比傳統暗場物鏡提高 2 倍以上。采用長工作距物鏡、半復消色差技術，多層寬帶鍍膜技術，采用LED光源，配合多種高度功能化的附件，50X 物鏡的有效工作距離 7.9mm，100X 物鏡的有效工作距離也達到了 2.1mm，更有20X 超長工作距金相物鏡，大幅拓展了 MX 機型的應用領域。，能滿足各種檢驗需要，可用于明場、簡易偏光、微分干涉觀察，專為LCD行業 / TFT玻璃 / COG導電粒子壓痕、粒子爆破檢查。
移動平臺
6 英寸三層機械移動平臺，低手位 X、Y 方向同軸調節 ；平臺面積 445mm×240mm，反射照明移動范圍 ：158mm×158mm ；透射照明移動范圍 ：100×100mm ；帶離合器手柄，可用于全行程范圍內快速移動 ；玻璃載物臺板（透、反射用）。
反射照明器
單顆大功率5W白色LED照明，帶斜照明機構。切換至斜照明時，可以使物體表面不同材質部分呈現立體圖案，增加觀察的對比度與視覺效果。
豐富的觀察方式，滿足您的檢測需求
明場觀察：遠心柯拉反射照明系統，配以無限遠長工作距平場消色差金相物鏡，從低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質顯微圖像。
暗場觀察：將暗場照明拉桿拉到指定位置，即可使用暗場功能，可以觀察物體表面的各種劃痕、雜質點及其他細微缺陷。內置衰減片，減少明暗場切換時光線劇烈變換對眼睛的刺激。
簡易偏光觀察：將起偏鏡及檢偏鏡插板插入照明器的指定位置，即可進行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和 360°旋轉式兩種。
DIC 微分干涉觀察：在正交偏光的基礎上 , 插入 DIC 棱鏡，即可進行 DIC 微分干涉觀察。使用 DIC 技術 , 可以使樣品表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，提高圖像的對比度。可匹配帶 DIC 功能的物鏡，使整個視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色 , 高倍物鏡 DIC 效果也較好。
U-DICR 微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來，如LCD 導電粒子，精密磁盤表面劃痕等。
攝影 / 攝像附件
在三目觀察筒上，可以配接攝影攝像裝置，將雙目觀察到的圖像輸出至監視器或計算機，進行圖像分析、處理、保存或傳送。使用專用的 C 接口與中繼鏡，可以和數碼相機聯接，快速進行拍照，并獲取圖像。
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