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     無論是結(jié)露還是嚴重的化學(xué)污染都不影響測量的快速性和準確度，即便是高達100公斤的壓力及持續(xù)性的高濕環(huán)境，對EE32/33系列都不成問題。

EE32/33系列的核心是新的HMC1型可加熱測量單元，由E+E公司采用薄膜技術(shù)制造。

HMC1測量元件的**設(shè)計可將化學(xué)污染物和露水蒸發(fā)。傳感器的單片集成電路結(jié)構(gòu)保證其迅速恢復(fù)至正常狀態(tài)以及測量的持續(xù)性。

另外，利用E+E的敏感元件鍍膜技術(shù)，HMC1測量單元可以更有效地抵抗腐蝕性物質(zhì)及導(dǎo)電介質(zhì)。

通過選擇不同的型號和安裝方式，EE32/33系列可應(yīng)用于各種不同的領(lǐng)域。

- 暫時結(jié)露過程中測量相對濕度:

測量單元被短暫強烈加熱

- 在持續(xù)高濕環(huán)境中測量露點溫度 (**EE33):

測量單元被持續(xù)控制和加熱

- 在持續(xù)高濕環(huán)境中測量相對濕度:

測量單元被持續(xù)控制和加熱;并附加溫度敏感元件

- 在嚴重化學(xué)污染和一般濕度環(huán)境中測量相對濕度 :

測量單元被短暫強烈加熱

- 在高達100公斤壓力和一般濕度環(huán)境中測量相對濕度 :

測量單元被安裝在一個特殊的耐高壓探頭中

利用隨機提供的配置軟件，用戶可自由設(shè)定變送器工作/傳感探頭的加熱模式，以及

電路輸出選擇和調(diào)整。

    型號                                                                    環(huán)境條件

A   -  墻面安裝                                              化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

B   -  管道安裝                                               化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

C   -  分體探頭，溫度上限120°C               化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

D   -  分體探頭，溫度上限180°C               化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

E   -   分體探頭，耐受壓力15bar                 化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

I     -   分體探頭，耐受壓力100bar              化學(xué)污染，暫時性結(jié)露 

J    -  雙分體探頭 (相對濕度RH測量)                持續(xù)高濕結(jié)露 

K   -   分體探頭 (露點Td測量)                           持續(xù)高濕結(jié)露 

典型應(yīng)用                                                            特點

制藥和食品工業(yè)                                                可加熱測量單元

制陶、木材、混凝土和聚酯等的干燥      工作范圍0...99% RH / -40...+180°C

蘑菇種植                                                              測量近結(jié)露狀態(tài)

高濕儲藏室                                                           結(jié)露后迅速恢復(fù)

環(huán)境試驗箱、食物加工箱                                 迅速去除化學(xué)污染物

氣象                                                                    耐受壓力*高達100公斤

計算多種濕度參數(shù)

可選敏感元件鍍膜