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昆山等離子清洗機(jī) 晶圓、硅片、芯片、半導(dǎo)體材料清洗設(shè)備可試樣

產(chǎn)品二維碼
參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào):SPA2800
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:特種清洗設(shè)備
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時(shí)間:2023-03-23 14:48:44
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產(chǎn)品簡介

昆山等離子清洗機(jī)晶圓、硅片、芯片、半導(dǎo)體材料清洗設(shè)備可試樣

詳情介紹

  昆山等離子清洗機(jī) 晶圓、硅片、芯片、半導(dǎo)體材料清洗設(shè)備可試樣。真空等離子清洗機(jī)技術(shù)作為一種新型的材料表面改性方法,以等離子清洗機(jī)低能耗、污染小、處理時(shí)間短、效果明顯的特點(diǎn)引起了人們的關(guān)注。等離子清洗機(jī)在眾多的改性方法中,低溫等離子清洗機(jī)是近年來發(fā)展較快的方法,等離子清洗機(jī)與其他方法相比有很多優(yōu)點(diǎn)。

  真空等離子清洗機(jī)工作原理:

  真空等離子清洗機(jī)的原理表面活化增強(qiáng)附著力包括一個(gè)反應(yīng)腔室、電源和真空泵組。樣品放置反應(yīng)腔室內(nèi),真空泵開始抽氣至一定的真空度,電源啟動(dòng)便產(chǎn)生等離子體,然后氣體通入到反應(yīng)腔室,使腔室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體,這些等離子體與樣品表面發(fā)生反應(yīng),生產(chǎn)可揮發(fā)的副產(chǎn)物,并由真空泵抽出。利用等離子高能粒子與材料表面發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng),可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面進(jìn)行激活、蝕刻、除污等工藝處理,以及對(duì)材料的摩擦因數(shù)、粘合和親水等各種表面性能進(jìn)行改良的目的。

  1、對(duì)材料表面的刻蝕作用–物理作用:

  等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

  2、激活鍵能,交聯(lián)作用:

  等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu),大大地激活了表面活性。

  3、形成新的官能團(tuán)–化學(xué)作用:

  如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體,那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),引入新的官能團(tuán),如烴基、氨基、羧基等,這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán),能明顯提高材料表面活性。

  真空等離子清洗機(jī)是利用等離子體內(nèi)的各種具有高能量的物質(zhì)的活化作用,將附著在物體表面的污垢剝離去除。下面以氧氣等離子體去除物體表面油脂污垢為例,說明這些作用。等離子體對(duì)油脂污垢的作用,類似于使油脂污垢發(fā)生燃燒反應(yīng);但不同之處是其在低溫情況下發(fā)生的“燃燒"。其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下,油脂分子zui終被氧化成水和二氧化碳分子,并從物體表面被清除。

  真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):

  1、超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC 觸摸屏控制系統(tǒng),的控制設(shè)備運(yùn)行。

  2、可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求。

  3、保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

  4、高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,*的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

  5、真空等離子清洗機(jī)的原理表面活化增強(qiáng)附著力主要適用于生物醫(yī)療行業(yè),印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。

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