監(jiān)控系統(tǒng)管路中介質(zhì)流量大小，在管路因堵塞等因素造成的管內(nèi)流量過低或者過高，可以及時向控制系統(tǒng)發(fā)出下線報警點（流量過低時）或者上線報警點（流量過高時）提供開關(guān)量信號，我們稱之為流量報警開關(guān)。
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)工作原理從冷卻塔來的較低溫度的冷卻水，經(jīng)冷卻泵加壓后送入冷水機組，帶走冷凝器的熱量后，溫度便升高了，然后被送到冷卻塔上進行噴淋，由于冷卻塔風扇的轉(zhuǎn)動，使冷卻水在噴淋下落過程中，不斷與室外空氣發(fā)生熱濕交換而冷卻，冷卻后的水落入冷卻塔積水盤中，然后再次被冷卻泵加壓后進入下一個循環(huán)。這就是它的流程，原理也很簡單，就是一個熱量交換的過程，這跟我們散熱器采暖一個道理。 [1]
冷卻設備有敞開式和封閉式之分，因而冷卻水循環(huán)系統(tǒng)也分為敞開式和封閉式兩類。敞開式系統(tǒng)的設計和運行較為復雜。
冷卻設備有冷卻池和冷卻塔兩類，都主要依靠水的蒸發(fā)降低水溫。再者，冷卻塔常用風機促進蒸發(fā)，冷卻水常被吹失。故敞開式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)必須補給新鮮水。由于蒸發(fā)，循環(huán)水濃縮，濃縮過程將促進鹽分結(jié)垢(見沉積物控制)。補充水有稀釋作用，其流量常根據(jù)循環(huán)水濃度限值確定。通常補充水量超過蒸發(fā)與風吹的損失水量，因此必須排放一些循環(huán)水（稱排污水）以維持水量的平衡。冷卻水循環(huán)系統(tǒng)在敞開式系統(tǒng)中，因水流與大氣接觸，灰塵、微生物等進入循環(huán)水；此外，二氧化碳的逸散和換熱設備中物料的泄漏，也改變循環(huán)水的水質(zhì)。為此，循環(huán)冷卻水常需處理，包括沉積物控制、腐蝕控制和微生物控制。處理方法的確定常與補給水的水量和水質(zhì)相關(guān)，與生產(chǎn)設備的性能也有關(guān)。當采用多種藥劑時，要避免藥劑間可能存在的化學反應。
封閉式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)采用封閉式冷卻設備，循環(huán)水在管中流動，管外通常用風散熱。除換熱設備的物料泄漏外，沒有其他因素改變循環(huán)水的水質(zhì)。為了防止在換熱設備中造成鹽垢，有時冷卻水需要軟化（見水的軟化）。為了防止換熱設備被腐蝕，常加緩蝕劑；采用高濃度、劇毒性緩蝕劑時要注意安全，檢修時排放的冷卻水應妥善處置。 [2]
1、清除生物黏泥，保障冷卻塔正常運行；
2、殺滅各種細菌，人的生命健康；
3、對人和環(huán)境沒有任何危害，對設備不產(chǎn)生腐蝕；
4、系統(tǒng)智能化運行，性能穩(wěn)定，無需人員職守；
5、不需要停產(chǎn)刷洗，提高生產(chǎn)效率；
6、降低循環(huán)系統(tǒng)的能耗，降低企業(yè)運行成本；
7、溶液可降解，直接排放，不增加后續(xù)污水處理的費用。
對半導體制造裝置發(fā)熱部分的冷卻：
單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：
激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：
等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻：
電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖條幅器的發(fā)熱部分、原子吸光光度計的光源等。
數(shù)控機床、加工中心冷卻介質(zhì)的降溫。 [1]
原創(chuàng)作者：江蘇良一冷卻設備有限公司
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