日前，中芯聯席CEO梁孟松博士在投資者調研會議上透漏了公司的新進展，特別是在*工藝上的新情況。
梁博士表示，14 納米在去年第四季度進入量產，良率已達業界量產水準。隨著我們展現出的研發執行能力，客戶對中芯技術的信心也在逐步增強，我們將持續提升產品和服務競爭力，引入更多的海內外客戶。
我們第二代*工藝技術n+1正在穩步地推進中，n+1正在做客戶產品驗證，目前進入小量試產，產品應用主要為高性能運算。
相對于*代*技術，第二代技術平臺以低成本客制化為導向，第二代相較于14納米，性能提高20%，功率減少57%，邏輯面積減少63%，集成系統面積減少55%。
總體來說，我們正在與國內和海外客戶合作10多個*工藝流片項目，包含14納米及更*工藝技術。
梁博士表示，我們相信，隨著5G、物聯網、教育和工作場所的資訊數位化的興起，集成電路行業將涌現巨大的市場機遇。
為了推動公司的創新與發展，我們將持續推進研發工作，來服務并滿足客戶需求和不斷增長的數字消費市場，新專案、新節點的開展需要時間，我們將一步一腳印地穩步開發*工藝技術。
原標題：中芯：14nm良率達業界水準、*工藝已有10多款芯片流片
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