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瑞士VAT真空閥-真空多閥裝置

瑞士VAT是真空閥門制造商，專注于高精度真空閥的設計與生產，產品廣泛應用于半導體、光伏、平板顯示、科研等領域，以高可靠性、長壽命和密封性能著稱。

1. 公司背景

瑞士VAT是真空閥門制造商，專注于高精度真空閥的設計與生產，產品廣泛應用于半導體、光伏、平板顯示、科研等領域，以高可靠性、長壽命和密封性能著稱。

2. 核心產品系列

(1) 單閥產品

• 系列型號：

• 角閥（如VAT 54系列）：適用于高真空（HV）和超高真空（UHV）環境。

• 直通閥（如VAT 47系列）：低流阻設計，適合快速抽真空。

• 閘閥（如VAT 19系列）：金屬密封，耐高溫（可達450°C），用于半導體工藝腔室。

• 調節閥：精確控制氣體流量，用于工藝壓力調節。

• 技術參數：

• 泄漏率：<10?? mbar="">

• 材質：不銹鋼、鋁合金，表面鍍鎳或電解拋光。

• 驅動方式：氣動、電動或手動。

(2) 多閥裝置（Multi-Valve Systems）

• 設計特點：

• 集成多個閥門（如隔離閥、旁抽閥、主泵閥）于單一模塊，簡化真空系統布局。

• 模塊化設計，支持定制化組合（如VAT Lockfast®系列）。

• 快速響應（開關時間可低至50ms）。

• 典型應用：

• 半導體刻蝕/沉積設備的多腔室隔離。

• 光伏鍍膜系統的真空路徑切換。

3. 核心技術優勢

• 密封技術：

• 金屬密封（無彈性材料）適用于高溫和腐蝕性環境。

• 彈性密封（如氟橡膠）用于經濟型應用。

• 驅動系統：

• 氣動執行器標配防爆設計，電動執行器支持PLC控制。

• 智能控制：

• 支持PROFINET、EtherCAT等工業協議，實時監控閥門狀態。

4. 典型應用領域

• 半導體制造：晶圓傳輸腔室、刻蝕設備。

• 光伏產業：PECVD、ALD設備的真空隔離。

• 科研裝置：同步輻射光源、粒子加速器。

• 工業真空：鍍膜機、熱處理設備。

5. 選型參考

• 關鍵參數：

• 通徑尺寸（DN16至DN400）。

• 壓力范圍（從大氣壓到10?1? mbar）。

• 兼容氣體（腐蝕性/惰性氣體）。

• 認證標準：

• SEMI F47（半導體設備抗電壓波動標準）。

• CE/UL認證。

6. 服務與支持

• 提供定制化設計、快速交付及全球技術支持。

• 在線配置工具（如VAT Configurator）輔助選型。

瑞士VAT真空閥-真空多閥裝置