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1、設備主要技術指標：

(1) 曝光面積： 200mm×200mm； 

（2）分辨力：?3mm；

（3）對準精度：±2mm；

（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、9英寸；

（5）樣片尺寸：4英寸、6英寸、8英寸；

（6）wafer chuck表面：防止光反射涂層；

（7）掩模樣片整體運動范圍：X：10mm;Y:10mm；

（8）掩模相對于樣片運動行程：X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6°；

（9）汞燈功率：1000W（直流）；

（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm；

（11）光源能量控制：光源恒功率（每日測量光強，微調recipe(參考356nm波長) ；

（12）曝光峰值波長:365nm；

（13）曝光方式：定時（倒計時方式0.1s—9999.9s）；

（14）光刻版夾具兼容性

（15）具有盲曝粗對準功能。

2．技術主要組成部分

（1）曝光頭系統包括:

     ¨ 冷光橢球鏡；

¨ 德國OSRAM1000W直流高壓汞燈；

¨ XYZ汞燈調節臺；

¨ 光學系統（冷光紫外平面反射鏡、快門、蠅眼透鏡組、冷光紫外拋物面反射鏡）；

¨ 冷卻風扇。

（2）對準工件臺系統包括:

¨ 掩模樣片相對運動臺；

¨（XY），轉動臺；

¨ 樣片調平機構；

¨ 樣片調焦機構；

¨ 承片臺3個： 4英寸、6英寸、8英寸；

¨ 掩模夾3個：5英寸、7英寸、9英寸。

（3）CCD對準顯微鏡系統包括:

¨4倍顯微鏡2只；

¨照明光源2套；

¨ CCD相機2只；

¨22英寸液晶顯示器。

（5）電控系統：

¨ 汞燈觸發電源(1000W)；

¨ 單片機控制系統；

¨ 控制柜桌。

（6）氣動系統系統包括:

¨ 氣缸、電磁閥、減壓閥、氣動開關，電磁閥驅動，氣動儀表等

（7）其他配置與附件

¨真空泵一臺；

¨空壓機一臺；

¨ 配套氣管10m；

3.相關技術資料：

     ¨設備使用及維護說明書

¨出廠檢驗合格證。