水質(zhì)環(huán)境氣相色譜儀GC—8900，魯南配置ECD檢測(cè)器，檢測(cè)水質(zhì)中氯代烴，，等，儀器配置頂空進(jìn)樣器，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化分析操作，外標(biāo)法定量計(jì)算。
儀器和試劑：
1、氣相色譜儀，帶有ECD檢測(cè)器
2、鹵代烴純品、、1,2二氯乙烷、、一溴二氯甲烷、二溴一氯甲烷、三溴甲烷、四氯乙烯均為色譜純。
3、鹵代烴標(biāo)準(zhǔn)溶液：參照表3—12所列濃度用甲醇為溶劑，配制I、II兩組標(biāo)準(zhǔn)溶液系列，表中單標(biāo)儲(chǔ)備液A低溫保存（在冰箱內(nèi)避光條件下可以保存2個(gè)月）；鹵代烴混合中間標(biāo)準(zhǔn)液B用標(biāo)準(zhǔn)儲(chǔ)備液A以甲醇或純水為溶劑配制（用時(shí)現(xiàn)配）。鹵代烴標(biāo)準(zhǔn)適用液由混合中間溶液B稀釋而成。
（1）校準(zhǔn)曲線的繪制：取若干只50ml平衡瓶，各加入抗壞血酸，準(zhǔn)確加入純水。用襯有聚四氟乙烯薄膜的科研橡皮塞封口，并用鐵絲加固，用微量注射器分別吸取適量?jī)山M濃度系列鹵代烴中間溶液B，注入平衡管內(nèi)的純水中，配成兩組不同濃度的鹵代烴標(biāo)準(zhǔn)適用溶液系列，放置30分鐘。待標(biāo)準(zhǔn)適用溶液均勻后，按純水空白測(cè)定步驟取得液上空間氣體，進(jìn)行色譜測(cè)定。取1ml系列I標(biāo)準(zhǔn)尊適用溶液的液上氣體，取60ul系列II標(biāo)準(zhǔn)使用溶液的液上氣體，分別注入色譜儀。所得峰高扣除相同進(jìn)樣量純水空白峰高后，得到不同進(jìn)樣量的兩組濃度對(duì)相應(yīng)（色譜峰高）的線性關(guān)系數(shù)據(jù)。
（2）樣品測(cè)定：按純水空白測(cè)定步驟進(jìn)行實(shí)樣分析，根據(jù)樣品中鹵代烴含量，分別抽取1ml或60ul液上氣體進(jìn)行色譜測(cè)定。對(duì)于不同進(jìn)樣量，都應(yīng)進(jìn)行平行測(cè)定。在樣品測(cè)定的同時(shí)，要選取與樣品中所含組分峰高相近的標(biāo)準(zhǔn)適用液，在同等條件下進(jìn)行樣品測(cè)定。
當(dāng)樣品中鹵代烴濃度含量較高，其響應(yīng)值超出了檢定器的線性范圍時(shí)，應(yīng)重新采樣和平衡操作。同時(shí)配制與樣品含量濃度接近的標(biāo)準(zhǔn)適用溶液，減少進(jìn)樣量進(jìn)行色譜測(cè)定。
國(guó)產(chǎn)氣相色譜儀儀器特點(diǎn)：
1、儀器中文顯示，觸摸式按鍵操作，可通過電腦實(shí)現(xiàn)對(duì)操作參數(shù)的控制。
2、儀器設(shè)計(jì)有較大尺寸的爐膛，可同時(shí)安裝多根色譜柱，毛細(xì)柱和填充柱分析。
3、儀器具有毛細(xì)管分流、不分流進(jìn)樣功能，可選擇大柱量進(jìn)樣口，同時(shí)玻璃襯管更換簡(jiǎn)單。
4、儀器具有多種復(fù)合型壓力閥調(diào)節(jié)功能，穩(wěn)壓閥，穩(wěn)流閥，針型閥，流速控制穩(wěn)定。
5、儀器具有穩(wěn)定的電路溫控技術(shù)，且具有的單片機(jī)程序控制，控溫精度高，配合的閥體控制技術(shù)，保證每次進(jìn)樣分析的保留時(shí)間重復(fù)性一致性好。
6、儀器可兼容多版本數(shù)據(jù)工作站處理技術(shù)，同時(shí)也可選擇其他控制數(shù)據(jù)工作站，技術(shù)完善。
7、儀器功能強(qiáng)大，可同時(shí)安裝多個(gè)檢測(cè)器運(yùn)行分析，也可以加載其他檢測(cè)器運(yùn)行分析。
氣相色譜儀魯南儀器參數(shù)：
溫度控制范圍： 室溫上6℃～400℃
溫度控制精度： 在200℃以內(nèi)精度為±℃
在200℃～399℃以內(nèi)精度為±℃
程序升溫范圍：室溫上6℃～400℃
程升階數(shù)： 八階
程升速率： ℃～40℃ 以℃為增量，初時(shí)，終止時(shí)間范圍0-6000min，
以1min為增量
氫火焰離子化檢測(cè)器（FID）
敏感度： Mt≤3×10 -12g/s(正十六烷)
噪音： ≤5×10 -14A
漂移： ≤1×10 -13A/15min
線性范圍: ≥10 6
電子捕獲檢測(cè)器（ECD）
敏感度： Mt≤1×10 -13g/s（γ-666）
噪聲: ≤15μV
漂移: ≤30μv/15min
線性范圍:≥5×10 3
放射源: 63Ni
控制方式:恒流式頻率自動(dòng)控制
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