TMC784系列研究等級光學平臺
研究等級的 CleanTop 在光學平臺性能上是工業中的。它具有TMC*的CleanTop設計：小的核心尺寸，高的核心密度設計，全鋼結構以及商用高等級結構阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴苛的領域如干涉儀、全息術，和超快激光技術，以及嚴重的地板振動環境中都被使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動消除系統和此平臺結合使用，可以形成好的整體振動控制。
TMC784系列研究等級光學平臺特點：
1、結構阻尼---研究等級
2、CleanTop獨立尼龍杯，每一個螺紋孔下面都是密封的（25mm）
一般技術要求：
核心：鋼制蜂窩封閉孔，0.010英寸厚的鋁箔
核心剪切模量：275000 psi
核心單元尺寸：< 0.5 in.2
核心密度：13.3磅/發生(230公斤/立方米)
平面度：0.005英寸。(0.13毫米)
桌面表層：430系列鐵磁不銹鋼，3/16英寸厚(5毫米)
側壁：阻尼成型槽鋼，乙烯基覆蓋
螺紋孔：25毫米長CleanTop尼龍杯
角順應性數據測量了平臺在響應校準錘的沖擊時所產生的位移。順應性是在48in x 96in x 12in的平臺上測量的。
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